https://x.com/reve/status/2062260665121919101 https://app.reve.com/ Reve 2.0 是由美國 Palo Alto 的 Reve AI（Reve 研究實驗室）推出的最新 AI 圖片生 成與編輯模型，於 2026 年 6 月初正式發布。 它在 Arena.ai 等 Text-to-Image 排行 榜上迅速竄升至第 2 名（約 1280 分），僅次於某些頂級閉源模型（如 GPT-Image-2） ，超越 Google Nano Banana 2 等對手。 核心創新：Layout-based 生成（圖像即程式碼）分離 Planning（規劃）與 Rendering（ 渲染）：傳統模型直接從文字 prompt 生成圖像，Reve 2.0 先產生精確的「layout」（ 語義地圖，類似程式碼，標記每個元素的位置、關係、風格、文字等），再進行高品質渲 染。 這讓圖像可觸摸、可編輯：支援拖拉式直接操作、檢查/修改 layout、迭代編輯，而不會 像傳統 diffusion 模型那樣累積 artifact（偽影）。 Agent-native：對 AI agent 友好，agent 可「看懂」並推理這些 code-based 圖像。 主要技術規格與特色原生解析度：支援 真 4K (4096x4096，16MP) 生成，是目前最快的 4K 圖像模型之一。無需後續 upscale，即可直接高解析度迭代。 生成速度：通常 20 秒內完成（視設定而定）。 強項：優秀的 prompt adherence（提示遵循度）和文字渲染（typography）。 電影感、攝影式美學（cinematic, filmic, photojournalistic）。 複雜構圖、肖像、photorealism、光影、空間關係控制。 迭代編輯穩定性高（使用 reference image 時 artifact 少；純 layout 模式則幾乎零 退化）。 編輯功能：自然語言 + 拖拉式編輯、remix、精準控制文字位置與設計元素，非常適合 graphic design 工作流。 與 1.0 版的差異Reve 1.0（2025 年初/3 月左右推出）已以強大提示遵循度、美學品質 和文字渲染在 Artificial Analysis 等排行榜上名列前茅。2.0 版大幅升級：更多參數 + 更多訓練數據。 引入 layout/code 架構，實現真正可控的高解析度工作流。 模型與產品（reve.com 編輯器）從頭共同設計。 使用方式官方平台： reve.com 或 app.reve.com，提供免費額度試用 + 付費方案。 支援文字 prompt + 參考圖像，結合自然語言編輯。 也有 API 可用於整合。 優缺點（基於社群與評測）優點：控制力與可編輯性遠超傳統模型。 高解析度原生輸出，適合專業輸出/列印。 迭代創作友好，不易退化。 潛在限制：作為較新模型，某些極端複雜或特定風格的表現可能仍需測試。 付費方案取決於使用量（有額度制）。 Reve 2.0 的哲學是「讓生成式 AI 從煙火秀階段進入可控制、可參與的專業工具階段」 ，強調「圖像即程式碼」的中間表示法。適合需要精準控制、專業設計或高品質迭代的創 作者。 -- 剛生的測試圖: https://pbs.twimg.com/media/HJ7zF-3a8AAMzeX?format=jpg&name=4096x4096 https://pbs.twimg.com/media/HJ7zKjeasAARRaD?format=jpg&name=4096x4096 https://pbs.twimg.com/media/HJ7zKjkbkAAO1sd?format=jpg&name=4096x4096 https://pbs.twimg.com/media/HJ7zKjpakAAGGZE?format=jpg&name=4096x4096 它的特色就是在它介面點產生的圖片 旁邊會出現一排圖片中元素能點 在產圖階段也看到一些長方形框框 也許是它把每個零件各自生成的意思? 免費額度不清楚有多少 它只顯示免費仔電池兩格 沒明寫有多少 還要注意一開始沒設生幾張可能會一次噴4張出來 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 114.36.234.25 (臺灣) ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/AI_Art/M.1780538735.A.3E9.html → error405: https://ideogram.ai/t/explore 另外一個剛出的 06/04 13:07